Intel начинает строительство нового завода в Израиле

Корпорация Intel начинает строительство нового завода по производству 300-миллиметровых подложек с применением норм 45-нанометровой технологии. Предприятие, получившее название Fab 28, разместится в городе Кирьят-Гат (Израиль), а его ввод в эксплуатацию запланирован на вторую половину 2008 года.

В настоящее время 300-миллиметровые подложки выпускаются на пяти заводах Intel, которые расположены в американских штатах Орегон, Аризона и Нью-Мексико, а также в Ирландии. Производство 300-миллиметровых подложек позволяет существенно снизить себестоимость изготовления полупроводниковых микросхем по сравнению со стандартными 200-миллиметровыми подложками. Достигается это за счет значительного уменьшения расхода электроэнергии (до 40 процентов) и воды в расчете на одну микросхему. Кстати, заводы Intel, выпускающие 300-миллиметровые подложки, обладают примерно такой же производственной мощью, как восемь заводов предыдущего поколения, производящих 200-миллиметровые подложки.

Новое предприятие Intel в Израиле, предположительно, будет занимать площадь в 18000 м2. В течение следующих семи лет здесь планируется создать порядка двух тысяч рабочих мест. Строительство завода обойдется в 3,5 миллиарда долларов США, при этом финансовую поддержку в создании предприятия компании Intel окажет правительство Израиля.

В июле корпорация Intel объявила о намерении инвестировать более трех миллиардов долларов в строительство еще одного завода по производству 300-миллиметровых подложек — Fab 32 в Чэндлере (штат Аризона).